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加热防腐型匀胶机
  • 更新日期:2025-08-22     浏览次数:46
    • CSI-F975 加热防腐型匀胶机

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      一、技术原理与核心参数

      加热防腐型旋转涂覆仪采用聚四氟乙烯腔体,外观美观坚固,具有优良的化学稳定性和ji强的耐腐蚀性,能够用于各种需要抗酸碱和有机溶剂的场合。仪器采用先进的精密电机,转速能达到 12000 转/分,有效的保障了成膜的均匀性。除了基本的旋涂功能,本品还配有加热组件,可以加热到 200℃,由智能温控表控温,温度测定准确,升温过程wanquan可控。另外本仪器采用触控屏控制,可以预设匀胶曲线,大大简化了使用过程降低了学习成本,十分适合实验室选购。

       

      、关键性能参数

      ?项目?

      ?参数要求?

      控制系统?

      PLC控制系统

      操作界面?

      彩色7寸触摸屏,中英文切换?

      速度范围

      0~ 12000rpm精度±1

      加速度

      100~8000rpm/s(空载)

      腔体材质

      聚四氟乙烯

      加热温度

      室温+200℃?

      传动机构

      精密电机+驱动器和高精度步进电机,传动稳、噪音小;

      控温方式

      AIP 智能控温

      滴胶方式

      精密注射泵(0.01~5ml ,精度士 1% ,防回流设计)

      匀胶曲线

      每条曲线 1000 段,共可储存 30 条曲线

      数据

      支持 USB 导出数据

      抽气接口

      φ6mm 快拧接口

      无油真空泵

      50L/min

      匀胶吸盘

      ?10mm,?25mm,?55mm,?100mm聚四氟材质

      打印机

      嵌入式微型打印机

      电压电流

      AC220V,50Hz

      外形尺寸

      310mm×365mm×350mm

      重量

      15kg

       

      三、应用领域

      ?光电子学领域?:用于制备太阳能电池、有机发光二极管(OLED)、有机太阳能电池(OPV)等器件的薄膜涂层?;

      ?半导体与微电子制造?:适用于光刻胶旋涂、晶圆表面涂布等工艺,支持最大12英寸晶圆处理?;

      ?材料科学?:可制备金属、半导体、氧化物及聚合物等材料的均匀薄膜,尤其适合需要抗酸碱和有机溶剂的实验环境?;

      ?生物医学领域?:用于生物传感器、生物芯片的涂层制备,聚四氟乙烯腔体设计确保化学稳定性与耐腐蚀性?;

      ?纳米科技?:支持纳米材料与纳米薄膜的制备,高精度控温(室温-200℃)和转速调节(10-12000转/分钟)保障工艺稳定性?。

       

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      四、基础操作流程

      ?A、安装与准备?

      ?连接设备?

      连接真空泵气管与电源线,确保螺帽拧紧?。

      插入设备电源线并打开总开关?。

      ?安装吸盘与片托?

      根据样品尺寸选择吸盘,对准槽口安装并固定螺丝?。

      将片托凹槽对准电机轴顶丝垂直放置?。

      B、参数设置?

      ?选择匀胶方案?

      进入操作界面,选择预设方案(如5段式参数)或自定义参数?。

      ?设置转速、时间与加速度?

      示例:第一段速度2000转/分钟,时间20秒,加速度2000?1。

      分段设置(如第二段3500转/分钟,第三段10000转/分钟)?。

      ?温度控制(如需加热)?

      设置温度范围(0-200℃),支持手动或自动加热模式?。

      C、旋涂操作?

      ?放置样品?

      将基片居中放置于片托,启动真空泵吸附固定?。

      ?启动匀胶?

      转速稳定后注入胶液,程序自动分段执行?。

      ?完成与清洁?

      等待转速归零,关闭真空泵并取出样品?。

      定期清洁抽气孔(滴酒精维护)?。

      D、注意事项?

      ?防腐设计?:聚四氟乙烯腔体可耐酸碱腐蚀,避免接触强氧化剂?。

      ?安全防护?:加热模块高温,操作时勿触碰?。

       

      五、仪器特点

      ?1.防腐设计?

      腔体材质采用?聚四氟乙烯(PTFE)?或?聚丙烯(PP)?,抗强酸、强碱及有机溶剂腐蚀?。

      部分机型配备?防溅废料罐?和?排液管?,防止腐蚀性液体污染环境?。

      ?2.加热与温控功能?

      加热范围覆盖?室温至200℃?,控温精度±1-2℃,适用于高温工艺(如光刻胶烘烤)?。

      支持?分段控温?,部分机型集成?抽废气功能?,确保工艺稳定性?。

      ?3.高精度匀胶性能?

      转速范围?10-20000转/分钟?,电机采用无刷伺服或德国进口电机,保障薄膜均匀性(厚度误差±1%)?。

      部分机型支持?正反转旋涂?和?分段编程?,优化复杂工艺需求?。

      ?4.智能化操作?

      配备?触摸屏控制?、蓝牙通信及PC端远程控制软件,支持配方存储与掉电保护?。

      实时显示?转速曲线?、吸附力及报警功能(如进胶保护、吸附不足互锁)?。

      ?5.安全与兼容性?

      透明耐腐蚀盖板(丙烯酸材质)隔绝有毒气体,部分机型适配手套箱使用?。

      适配半导体、光电子等领域?。

       

      六、配置清单

      主机1台;

      测试软件1套;

      说明书1份;

      合格证1份;

      保修卡1份;

      签收单1份;

      铭牌1块;

      电源线1根;

      扳手1套;

      宣传册若干;



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